来源:重庆市招商局2022-06-10
设备环节,重点引进刻蚀设备、薄膜沉积设备、清洗设备、量测设备等关键前道设备生产项目。...amoled(有源矩阵有机发光二极管)领域,重点引进8.5代等更高世代线oled面板企业,积极引进玻璃基板、pi柔性基板、有机发光材料、掩膜版、显影刻蚀液等关键材料配套企业。
来源:英格索兰2022-06-06
:对太阳能电池周边的掺杂硅进行刻蚀,以避免pn结正面所收集到的光生电子沿着边缘扩散有磷的区域流到pn结的背面,而造成短路。...可防止杂质污染,防止和其他气体的反应,提高拉晶纯度设备:单晶炉生长条件:必须在真空条件或保护气氛下才能避免氧化组成:总体由炉体、电气部分、热系统、水冷系统、真空 系统和氩气供给装置六部分组成太阳能电池生产 – 刻蚀工艺
来源:南宁市人民政府2022-05-26
发展重点:重点发展为集成电路、平板显示、新能源电池等领域配套的高纯化学试剂、电子特种气体、先进封装材料、锂电池负极材料、光致刻蚀剂、电镀化学品等电子化学品。
来源:滁州市人民政府2022-05-17
大力发展193nm光致蚀刻剂、电子束光致刻蚀剂等满足大尺寸(≥8英寸)集成电路生产线和平板显示行业配套用髙精度刻蚀产品。印刷电路板加工处理用干膜抗蚀剂、液态感光成像阻焊剂等。
来源:工业水处理2022-04-22
1 水质及水量1.1设计水量及水质泰兴某光电建设规模为年产2.1 gw n型单晶双面太阳能电池,废水主要来自生产工序硅片制绒及清洗、扩散制结、湿法刻蚀、离子注入、退火、pecvd制氧化铝和氮化硅膜、丝网印刷
来源:正泰新能源2022-03-14
正泰新能源此次获奖的“super perc 2.0电池”项目,在开发过程中积累了大量实验经验,获得发明专利《一种perc双面电池和光伏组件》1项,实用新型专利《太阳能电池刻蚀装置和制备系统》《一种晶硅电池
来源:北极星环保网2022-02-28
推广基于增材制造的废旧机床关键零件质量控制及性能预测评估技术,积极研发大功率工业级金属3d打印机,支持发展铁基合金镀铁再制造技术和无刻蚀镀铁技术。
来源:北极星环保网2022-02-16
攻坚壮大光学聚酯薄膜、显影液、蚀刻液、靶材、掩膜版、超宽幅偏光片、驱动ic、显示模组、刻蚀机、蒸镀机等关键配套环节,完善产业链上游体系建设。
来源:ABB中国2022-02-09
中微半导体设备(上海)股份有限公司(简称“中微公司”)致力为全球集成电路和led芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案,其开发的电容耦合等离子体(ccp)刻蚀设备、电感耦合等离子体(icp)刻蚀设备
来源:北极星储能网2022-01-24
重点支持研发生产全自动大面积pecvd(等离子增强化学气相沉积)、多槽制绒清洗设备、激光刻蚀机、干法刻蚀机、离子注入机、高精度丝网印刷机、高温烧结炉等晶硅太阳能电池片生产线设备;大面积tco(透明导电氧化物
来源:合肥市经济和信息化局2022-01-20
重点支持研发生产全自动大面积pecvd(等离子增强化学气相沉积)、多槽制绒清洗设备、激光刻蚀机、干法刻蚀机、离子注入机、高精度丝网印刷机、高温烧结炉等晶硅太阳能电池片生产线设备;大面积 tco(透明导电氧化物
来源:北极星固废网2022-01-17
来源:人民网2022-01-10
可再生能源装机规模持续扩大表面制绒、刻蚀清洗、丝网印刷……在陕西西安隆基乐叶电池工厂的车间内,一片片墨蓝色的太阳能电池片正等待出厂。“投产以来,我们的产能不断提升。”隆基乐叶总经理邵爱军说。
来源:上海经信委2021-12-21
一是集成电路装备,瞄准光刻、刻蚀、湿法、沉积、离子注入、量测检测等工艺环节,推进先进光刻机、高端刻蚀机、晶圆清洗设备、离子注入设备、气相沉积设备、量测检测设备、先进封装设备等核心产品研发,在关键制程实现产业化突破
来源:北极星储能网2021-11-10
增强集成电路材料和装备本地配套及服务能力,支持大尺寸硅片、光刻胶、高纯化学试剂、电子气体、化合物半导体材料、溅射靶材以及沉积设备、刻蚀设备、半导体检测设备等研发和产业化。
来源:北极星环保网2021-10-29
积极引进金属有机化合 物化学气相沉积设备(mocvd)、刻蚀机、光刻机、等离子体增 强化学气相沉积设备(pecvd)、固晶机、光谱分析仪等核心设备 研发生产项目。
来源:上海市人民政府2021-09-30
面向经济主战场,刻蚀机、光刻机等战略产品取得重大突破,发布人工智能云端训练和推理芯片,特定领域性能及能效比达到世界领先水平。
来源:相章分享VOCs治理技术2021-09-24
然后对栅电极及引线、有源层孤岛、源漏电极及引线、接触过孔、像素电极,经光刻胶涂敷、光刻胶曝光、显影等光刻工艺并经湿法刻蚀、干法刻蚀后,剥离掉多余的光刻胶,经热处理把半导体特性作均一化处理后即做成阵列玻璃基板
来源:相章分享VOCs治理技术2021-08-09
优化光刻、刻蚀等环节的洁净室设计,形成封闭式操作环境,更多地采取自动化设备实现高效操作,提高原材料的使用效率,最大程度减少vocs的挥发,提高废气的收集效率。...这些有机污染物主要来源于清洗、刻蚀、沉积、镀膜、光刻、显影等频繁使用有机溶剂的工序。半导体生产制造过程中产生的vocs污染物成分复杂,主要有各类烷烃、烯炔烃类、芳族化合物以及酮、醚类等。