2004-02-11

英特尔公司称，为了解决这一问题，它已经找到了一种绝缘金属材料，以取代目前晶体管中普遍使用的二氧化硅。二氧化硅在晶体管中的使用已经有三十年的历史了。...当在芯片上集成的晶体管越来越多时，二氧化硅绝缘层会变得非常薄，使电流能够泄露出去。英特尔公司的解决方案是一种被称为“高k绝缘体”的较厚的金属材料，使晶体管不会发生电流泄露。 　　

2003-12-12

（2）将（1）中生成的高分子图案用于形成二氧化硅图案的掩膜图案（见图1-b）。所形成的二氧化硅图案尺寸精度低于高分子图案精度（见图1-d。...高分子图案在二氧化硅图案形成后将被删除。 （3）通过对硅材料进行成膜和蚀刻处理，形成硅微结晶图案（见图1-c）。 　　ibm预测，今后3～5年内将可以在试制水平上使用该技术。

2003-11-12

英特尔公司称，为了解决这一问题，它已经找到了一种绝缘金属材料，以取代目前晶体管中普遍使用的二氧化硅。二氧化硅在晶体管中的使用已经有三十年的历史了。...当在芯片上集成的晶体管越来越多时，二氧化硅绝缘层会变得非常薄，使电流能够泄露出去。英特尔公司的解决方案是一种被称为“高k绝缘体”的较厚的金属材料，使晶体管不会发生电流泄露。 　　

2003-03-22

但每家又都有自己的专长，如东京电子在二氧化硅刻蚀方面做得最好，而应用材料就做金属刻蚀，市场细分的非常厉害。...例如，东京电子二氧化硅刻蚀机的市场份额占到80%，它为什么还要合资呢？当然二流三流企业会来合作，但带不来尖端技术。