北极星
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      来源:《中国电子报》2007-03-14

      “十一五”期间,我们要积极开发90nm、60nm乃至45nm的高速、低功耗芯片和新型硅基集成电路的制造工艺技术,研究新型的光刻及离子注入技术,缩小技术差距。

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