来源：PV-Tech2013-04-11

ae公司致力于研究和生产基于等离子状态下薄膜沉积和刻蚀工艺的开关电源，产品主要包括直流电源、直流脉冲电源、低频和中频电源以及射频电源。

来源：扬州网2013-04-03

这是我们公司新改造的太阳能刻蚀工艺技术应用。...宋锋兵介绍，整个晶硅电池生产线分为制绒、扩散、刻蚀、pecvd、丝网印刷等5个环节，原先的4个环节都处于全球一流水准，只有刻蚀这个环节仍然需要3台机器同时运转。

来源：北极星电力网2013-03-08

主要包括6英寸/8英寸/12英寸集成电路生产线所用的光刻机、刻蚀机、离子注入机、退火设备、单晶生长设备、薄膜生长设备、化学机械抛光设备、封装设备、测试设备等。...2.2.7电子专用设备仪器半导体生产用镀膜、溅射、刻蚀等设备。锂离子电池生产专用设备。高精密自动印刷机、高速多功能自动贴片机、无铅再流焊机等电子元器件表面贴装及整机装联设备。

来源：CSIA-中国半导体行业协会2013-02-25

2009年底，上海华虹nec和电子科技大学合作，采用深槽刻蚀和外延填充技术成功实现了sj功率mosfet，击穿电压达到750v，部分动态参数优于国外同类产品。

来源：北极星太阳能光伏网2012-12-25

其中单晶炉、扩散炉、等离子刻蚀机、清洗制绒设备、组件层压机、太阳模拟仪等已达到或接近国际先进水平，性价比优势十分明显。

来源：中国电子报2012-12-04

他们很快推出高温扩散炉和等离子体刻蚀机，并连续多年取得国内市场占有率80%的佳绩。在此基础上他们乘胜追击，开发成功太阳能电池制造7道主要工序的所有工艺设备，市场覆盖全国，并出口20个国家和地区。

来源：OFweek太阳能光伏网2012-11-30

银浆烧制程序从550度融化玻璃料开始，熔融的玻璃料刻蚀arc薄膜，并继续到达sio2的表面，造成轻微腐蚀。此时，银纳米粒子跟釉料到达被轻微腐蚀的硅表面，银和硅的合金化也是发生在这一刻。

来源：北极星太阳能光伏网2012-11-21

清洗后可达到：无光刻胶和聚合物残留;刻蚀通孔侧壁无铜的残留物;与铜及电介质材料如fsg、sin等相容性;在铜表面形成保护钝化膜层;缺陷率满足65纳米技术带的要求(如颗粒指标、水印等)。...北京七星华创电子股份有限公司(以下简称七星电子)是国内知名电子专用设备供应商，是我国最早的半导体设备研制企业，是我国第一台半导体扩散炉、第一台等离子刻蚀机、第一台气体质量流量控制器研制企业，也是我国最早的半导体清洗设备研制企业

来源：中关村在线网站2012-11-09

如光刻机、激光划片机、离子束镀膜机、离子刻蚀机、芯片自动检测机等。四是器件封装自动化设备。全自动固晶机、全自动焊线机、自动点胶机、自动编带机等。五是led光源、灯具自动化制造设备。

来源：PV-Tech2012-11-01

为制作黑硅材料，nrel首先在硅片表面制备银纳米颗粒，然后在通过湿法刻蚀制作特殊的多孔表面结构。通过控制溶液的配比，科学家可以调整纳米结构的形态。

来源：PV-Tech2012-11-01

为制作黑硅材料，nrel首先在硅片表面制备银纳米颗粒，然后在通过湿法刻蚀制作特殊的多孔表面结构。通过控制溶液的配比，科学家可以调整纳米结构的形态。

来源：《太阳能发电》杂志2012-10-17

半导体还有很多值得光伏借鉴的经验，比如离子注入、等离子刻蚀等，只是在成本方面可能还贵了一点。

来源：北极星电力网2012-10-10

led 生产设备，主要包括 mocvd 设备、刻蚀机、离子注入机等及相关 检测设备。...12 英寸集成电路高端制造线设备，包括 12 英寸集成电路生产线所用的光刻机、刻蚀机、离子注入机等及相关测试设备。

来源：北极星电力网2012-10-10

新型高效荧光粉等开发及制造技术，生产型金属有机源化学气相沉积设备(mocvd)、氢化物气相外延(hvpe)等外延装备制造关键技术，高强度气体放电灯用大功 率电子镇流器新技术、感应耦合等离子体(icp)刻蚀机等芯片

来源：科技部2012-09-19

深入研究等离子体与钨基壁材料相互作用理论规律、物理机制、相关技术以及深入的实验研究，包括边界等离子体输运及偏滤器行为、边界等离子体原子分子过程、壁材料等离子体辐照效应和高热负荷效应、氢同位素滞留与输运、壁表面刻蚀和再沉积原位诊断技术

来源：北极星太阳能光伏网（独家）2012-09-06

目前行业出现的另外一种技术化学腐蚀去边与背面腐蚀抛光技术集刻蚀与去psg一体，背面绒面的抛光极大降低了入射光的透射损失、提高电池红光响应。...激光开槽隔离技术根据pn结深度而在硅片边缘开一物理隔离槽，但与国外情况相反，据国内使用情况来看电池效率反而不及等离子体刻蚀技术，因此该方法有待进一步研究。

来源：北极星太阳能光伏网（独家）2012-09-04

反应离子刻蚀技术(rie)是最有发展前景的技术，它首先在硅片表面形成一层mask(掩膜)再显影出表面织构模型，然后再利用反应离子刻蚀方法制备表面织构。...京瓷产业化17.2%~17.7%的多晶硅电池就是采用等离子刻蚀工艺的一个成功典范。(作者：和海一样的新能源)

来源：北极星太阳能光伏网2012-08-30

④ 扩散炉和刻蚀机采用从48所订制的半导体级产品，扩散后有特殊处理。

来源：北极星太阳能光伏网2012-08-27

多晶硅由于结构的各项同性而使采用碱腐蚀织构化效果不好，日本京瓷(kyocera)公司采用pecvd/sin+表面织构化采用反应性等离子刻蚀技术(rie)。

来源：北极星太阳能光伏网（独家）2012-08-27

多晶硅由于结构的各项同性而使采用碱腐蚀织构化效果不好，日本京瓷(kyocera)公司采用pecvd/sin+表面织构化采用反应性等离子刻蚀技术 (rie)。