来源：能源杂志2020-02-18

其中，光伏设备龙头企业捷佳伟创通过取得住友重工（中国大陆地区）独家授权后实现了在pecvd设备上的突破，其研发的生产线已经应用于通威的hjt产线。与巨头联手，钧石能源也采取同样策略。...据了解，hit所需pecvd设备和现有设备差别较大，而hit电池进口设备约为8-10亿元/gw，国产设备约为5-8亿元/gw，perc则只需要2.5-3亿元/gw，hit电池设备成本约为perc的3倍。

来源：肖索的研究号2020-02-18

此外爱旭pecvd等核心设备通过国内外一流厂商定制化采购，有利于提高电池的生产速率和量产稳定性，进一步降低制造成本。...爱旭从2015年起即围绕perc电池（管式pecvd制程）进行专利布局，在整体制造工艺、核心钝化技术、关键工艺技术、电池外观结构、工艺设备等方面累计获得300多项授权专利，形成了较为稳固的专利防火墙。

来源：国信证券2020-02-18

其中背面钝化镀层包括氧化铝镀层与氮化硅镀层， 市场中存在两种技术路线，一是采用 pecvd+pecvd 两台设备，代表厂商为 捷佳伟创；二是用 ald+pecvd 两台设备，代表厂商为江苏微导。

来源：SOLARZOOM光储亿家2020-02-17

规模化是设备成本下降的主要路径之一，当前hit电池设备的单机产能相对较低，清洗机、pvd、丝网印刷机单机产能大约在200mw/台左右，pecvd只有100mw/台左右的产能。

来源：摩尔光伏2020-02-13

故制绒清洗后的硅片要尽快转移至cvd工序，生产中需将制绒后q-time时间压缩至极致。由于rca清洗化学品耗量较大且废液处理成本较高，目前行业内开始使用臭氧超纯水清洗代替rca完成硅片制绒后清洗工作。

来源：SOLARZOOM光储亿家2020-02-13

当前，受益于钧石、理想、迈为、捷佳伟创、金辰等hjt电池装备企业对核心设备pecvd的国产化探索，hjt电池gw级乃至10gw级的投资将于2020年中全面启动。

来源：电缆网2020-02-12

2012年10月，美国商务部宣布对从中国进口的光伏组件征收第一轮反倾销和反补贴税(ad/cvd)，税率34%至47%。

来源：广发证券2020-02-12

hjt 工艺所需的核心设备包括：（1）湿法设备；（2）非晶硅沉积所需的pecvd 设备；（3） tco 制膜设备的pvd（rpd）设备；（4）金属化设备。

来源：索比光伏网2020-02-12

2012年10月，美国商务部宣布对从中国进口的光伏组件征收第一轮反倾销和反补贴税(ad/cvd)，税率34%至47%。

来源：晓说浙电论文2020-02-11

电压和电流信号的系数相乘可以计算得到小波功率，计算过程如下：式中：pw为小波功率；n为离散矢量的长度；ccdi为第i个采样电流的级数系数；cvdi为第i个采样电压的级数系数。

来源： 光伏领跑者创新论坛2020-02-11

非晶硅镀膜工艺可以采用cat-cvd和pecvd两种设备，其中cat-cvd主要由日本爱发科提供，pecvd海外供应商包括应用材料和梅耶博格，国内供应商主要是理想万里晖，迈为股份设备正在通威合肥公司验证

来源：评安机械PAJX2020-02-11

非晶硅镀膜工艺可以采用cat-cvd和pecvd两种设备，其中cat-cvd主要由日本爱发科提供，pecvd海外供应商包括应用材料和梅耶博格，国内供应商主要是理想万里晖，迈为股份设备正在通威合肥公司验证

来源：南开金融硕士宏观行研2020-02-10

硅烷法可以分为两类，较早出现的是硅烷西门子法（silane siemens），即用硅烷（sih4）而非tcs作为cvd还原炉的原料，通过硅烷的热分解和气相沉积来生产高纯度多晶硅棒料，rec旗下的rec

来源：北极星太阳能光伏网（独家）2020-02-10

迈为股份则主攻hit中的丝网印刷与pecvd技术，清洗环节选择采购日本yac的成熟产品，tco膜沉积环节选择的是rpd设备采购德国的阿登纳的设备，以此来提供完整产线。...主流上，hit产线共涉及四项设备：用于清洗制绒的rca、用于非晶硅薄膜沉积的pecvd、用于tco膜沉积的pvd、和用于电极金属化的丝网印刷，在这四条赛道上，中国的设备企业已经蓄势待发。

来源：女柚子之路2020-02-10

具体来讲，hit主要生产工序有4步，对应4种专业设备，依次是清洗制绒机、pecvd、pvd/rpd、丝网印刷机。...pecvd：主要是tmb、b2h6、ph3等气体，非常成熟，成本占比可以忽略。pvd/rpd：氩气、靶材。先导、映日、壹纳等国内厂商已经突破，价格大幅低于海外厂商，未来需求放量，价格还有下降空间。

来源：摩尔光伏2020-02-06

来源：摩尔光伏2020-02-05

通常是用cvd预淀积时氧化层厚度不均匀；有时也可能是扩散时气体管路泄漏引起气氛紊乱；气体还有杂质，使扩散过程中生长的氧化层不均匀，造成氧化层表面发花；5.硅片表面滑移线或硅片弯曲。...如cvd预淀积时源的浓度过高，液态源预淀积时通源的气体流量过大或在通气时发生气体流量过冲；（2）源温过高，使扩散源的蒸气压过大；（3）源的纯度不高，含有杂质或水份；（4）预淀积时扩散温度过高，时间太长；

来源：老成之见2020-02-04

叠层技术需要用低温沉积工艺（pvd/cvd方式）实现短波长吸收（钙钛矿）和长波长吸收（hjt）的结合，其所应用的tco膜层已然在异质结电池中采用，而在hjt单结中损失的蓝光可被上层钙钛矿收集利用。

来源：招商证券机械团队2020-02-04

非晶硅薄膜沉淀设备：hwcvd设备主要厂商为ulvac；pecvd设备主要供应厂商为梅耶博格、应用材料、理想万里晖、钧石。迈为股份和捷佳伟创已有cvd产品储备，仍在试验中。

来源：光伏测试网2020-01-31

pecvd分rfcvd（射频等离子体化学气相沉积）与vhfcvd（甚高频等离子体化学气相沉积），差异主要是射频频率，总体来说rfcvd沉积非晶硅均匀性较好，但成膜质量不如vhfcvd，并且对硅衬底的轰击也强于