来源:宁夏金谷拍卖行2018-05-25
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来源:pv-magazine2018-03-21
其硅密度降低到硅晶片的水平,而增长速度超出先前的10倍以上。研究人员通过一种区域加热重结晶方法(zhr法),将表面粗糙度降低到0.2-0.3nm。基底然后以高速生长,生产出具有高晶体质量的单晶薄膜。