北极星
      北极星为您找到“离子注入机”相关结果61

      来源:PV-Tech2012-06-01

      在我们的展台安装离子注入,给我们的新老客户一个机会来了解这种太阳能注入系统的设计质量和制造工艺,并熟悉它们的功能。...本月早些时候中国上海举办的第六届国际太阳能行业和光伏展览会议(6thinternationalsolarindustryandphotovoltaicexhibitionandconference)上,其新型离子注入

      来源:中国科学院2012-05-10

      该团队利用自行研制的等离子体浸没离子注入(国家自然科学基金委、中科院装备项目、方向性项目支持)制备了多种微观结构的黑硅材料,在可见光波段黑硅的平均反射率为0.5%,与飞秒激光制备黑硅的反射率相当。

      来源:核工业西南物理研究院2012-02-28

      研制了具有自主知识产权的复合渗注镀技术集成试验平台,成功开发出多种等离子体复合表面处理工艺;开发出材料改性多功能离子注入系列、等离子体镀膜机系列、低温改性处理机、低温冷凝吸附泵、多媒体大屏幕显示屏、核磁共振成像稀土永磁体及超导磁体

      “十二五”中国拟将重点发展光伏生产专用设备

      来源:北极星太阳能光伏网2012-02-27

      支持多槽制绒清洗设备、全自动平板式等离子体增强化学汽相沉积(pecvd)、激光刻蚀机、干法刻蚀机、离子注入、全自动印刷机、快速烧结炉等晶硅太阳能光伏电池片生产线设备和pecvd等薄膜太阳能光伏电池生产设备

      来源:中商情报网2012-02-24

      支持多槽制绒清洗设备、全自动平板式等离子体增强化学汽相沉积(pecvd)、激光刻蚀机、干法刻蚀机、离子注入、全自动印刷机、快速烧结炉等晶硅太阳能电池片生产线设备和pecvd等薄膜光伏电池生产设备。

      来源:工信部网站2012-02-24

      高密度离子刻蚀机、大角度离子注入等集成电路核心制造设备进入生产线。千万亿次高性能计算机研制成功,迈入国际先进行列。...进一步完善产业链,增强刻蚀机、离子注入、互联镀铜设备、外延炉、光刻匀胶显影设备等8-12英寸集成电路生产线关键设备、仪器和材料的自主开发和供给能力,支持大生产线规模应用。

      来源:工信部网站2012-02-24

      芯片制造能力持续增强,65纳米先进工艺和高压工艺、模拟工艺等特色技术实现规模生产;方形扁平无引脚封装(qfn)、球栅阵列封装(bga)、圆片级封装(wlp)等各种先进封装技术开发成功并产业化;高密度离子刻蚀机、大角度离子注入

      来源:中商情报网2012-02-24

      支持刻蚀机、离子注入、外延炉设备、平坦化设备、自动封装系统等设备的开发与应用,形成成套工艺,加强12英寸硅片、soi、引线框架、光刻胶等关键材料的研发与产业化,支持国产集成电路关键设备和仪器、原材料在生产线上规模应用

      《太阳能光伏产业“十二五”发展规划》正式印发

      来源:北极星太阳能光伏网2012-02-24

      支持多槽制绒清洗设备、全自动平板式等离子体增强化学汽相沉积(pecvd)、激光刻蚀机、干法刻蚀机、离子注入、全自动印刷机、快速烧结炉等晶硅太阳能电池片生产线设备和pecvd等薄膜太阳能电池生产设备。

      来源:北极星太阳能光伏网2011-11-02

      半导体设备有限公司维利安(variansemiconductorequipmentassociates)和正泰(astronergy)公司表示,经过短短两个月的合作,他们通过使用维利安的沙里昂离子注入系统开发了新的生产工艺

      来源:北极星太阳能光伏网2011-09-01

      记者近日从浦东企业上海凯世通半导体有限公司获悉,该公司研制的太阳能电池关键设备离子注入将在今年年底前完成出样,这也将成为首台在中国出产的太阳能离子注入,预计到2013年将实现量产。

      来源:常州日报2011-03-26

      中科院上海微系统所已有80多年历史,中国第一颗具有自主知识产权的存储转发通信小卫星、第一炉电弧炉钢、第一台60万伏离子注入、第一块双极型集成电路和第一块单片光集成器件均在此诞生。

      来源:中国电子报2011-02-17

      48所而言,我们一下步将围绕现有光伏设备提高自动化程度,建立智能的而不是粗放的太阳能电池生产线;今年将投入1.6亿元集中把mocvd设备开发出来并延伸出自己的led产业链和产业集群;ic设备领域要围绕离子注入进一步提高水平

      2006-10-10

      4、赢得国际平等对话   100纳米离子注入是芯片制造装备的核心设备,然而,我国在离子注入核心技术上始终技不如人,这种局面一直使得国内从事离子注入技术的科研人员抬不起头来。

      2006-09-29

      科技部高新技术发展及产业化司司长冯纪春评价说,这次100纳米高密度等离子体刻蚀机和大角度离子注入两种设备的研制成功,让中国高端集成电路核心设备技术水平跨越了5代。   ...  中国863计划集成电路制造装备重大专项“100纳米高密度等离子体刻蚀机和大角度离子注入”28日在北京宣布通过科技部与北京市组织的项目验收,这标志着中国集成电路制造核心装备的研发取得了重大突破。

      2006-09-05

      离子注入、刻蚀机、光刻机、mocvd等关键设备应是国产设备选择的技术突破点。   ...我所承担的国家重大装备项目100nm离子注入、生产型gan mocvd等相继获得重大突破。

      2006-02-22

      针对对我国设限的关键设备,如光刻机、mocvd、离子注入等,以及新型半导体材料,如氮化镓、soi材料等,开展自主创新,争取在全球新一轮半导体技术的竞争中占据一席之地。   ...周生明 政府和政策层面不应再片面强调自主研发高端工艺技术(65纳米)、设备技术(例如光刻机、离子注入等)、材料技术,以及cpu、dsp等高端产品,这方面要充分引进和利用国际资源,寻求合作。

      2004-10-15

      国家高科技项目中的光刻机、离子注入、刻蚀机、大直径硅单晶炉项目等正在加紧进行。...这14种设备包括电子束曝光机、分步重复投影曝光机、m-rie金属刻蚀设备、rie介质刻蚀设备、imd-cvd设备、lpcvd、大束流离子注入、磁控溅射系统、氧化扩散系统、ecr-cvd、硅片匀胶显影处理系统

      2004-08-30

      国家高科技项目中的光刻机、离子注入、刻蚀机、大直径硅单晶炉项目等正在加紧进行。...这14种设备包括电子束曝光机、分步重复投影曝光机、m-rie金属刻蚀设备、rie介质刻蚀设备、imd-cvd设备、lpcvd、大束流离子注入、磁控溅射系统、氧化扩散系统、ecr-cvd、硅片匀胶显影处理系统

      来源:《中国电子报》2007-03-14

      在6-8英寸用光刻机、刻蚀机、离子注入、立式扩散炉、快速热处理设备,氧化扩散设备、化学腐蚀设备、硅片清洗设备、划片机、键合机、集成电路自动封装系统等设备实用化的基础上,提供批量供应。...英寸硅抛光片和8英寸、12英寸硅外延片,锗硅外延片,soi材料,宽禁带化合物半导体材料,新型互连材料等材料;努力掌握6-8英寸集成电路设备的制造技术;力争实现12英寸65纳米激光步进光刻机、大角度倾斜大剂量离子注入

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