2005-02-01
杨学明告诉记者,今后,国家支持将向芯片设计、生产装备和包括芯片制造在内的“前道”工序倾斜,而对于技术含量低、劳动密集型的封装和测试等“后道”工序,支持力度可能会相对会弱一些。 ...发展“前道”技术 新18号文确立了当前加速我国半导体芯片产业发展的重点应当是:大力发展芯片设计业;扩大芯片制造、封装与测试生产能力,不断提高加工技术水平;重视新型半导体器件的发展以及加速发展半导体支撑业
2005-01-18
asmc致力于为半导体公司提供专业的芯片制造服务。在模拟、功率和智能卡工艺领域asmc优势明显。 ...据了解,asmc是中国大陆最大的芯片制造公司之一,拥有一座月产4万片5英寸芯片的工厂和一座月产3.5万片6英寸芯片的工厂,其新建的生产8英寸芯片的工厂月产能可达3万片。
2004-11-25
下一代光刻(ngl)面临的新障碍有可能威胁ic业向亚40纳米(sub-40-nm)芯片制造转移,代工设备提供商佳能公司(canon)高层作出了这样一个警告。
2004-10-21
美国应用材料公司的专家认为,中国的芯片制造能力已经得到了充分的积累,现在是该产业腾飞的最好时机。...有关专家认为,我国的芯片制造已经到了腾飞的最佳时机。 随着计算机、通讯产品、家电等电子整机产品不断向我国转移,它的上游产品--集成电路(ic)也加速向我国转移。
2004-08-31
半导体硅圆片尺寸的发展早已从小尺寸(2英寸、3英寸、4英寸)、经过中尺寸(5英寸、6英寸)发展到大尺寸(8英寸、12英寸)。目前世界上主流芯片加工线为8英寸,而正处于大力发展12英寸线的阶段
2004-08-18
光刻是芯片制造中最关键的制造工艺,它能将设计好的电路“刻”到硅晶体上,就好像用微型画笔在硅晶体上绘制微细线条一样。半导体工业的精髓也正在于此。...简单来说,euv光刻技术就是用远紫外线来实现芯片制造的光刻工艺。英特尔的工程师宣称,他们已经运用该技术“朝着2009年实现32纳米制程的方向迈出了重要的一步”。