最近,更有日本研究者开发了低温cvd方法直接将石墨烯生长在塑料或者二氧化硅基底上,来避免单晶膜转移时可能受到的损伤。预计2018年会有更新颖的石墨烯制备技术出现。...美国能源部旗下的阿贡国家实验室(argonne national laboratory)新开发了一个应用金刚石衬底材料通过超高速化学气相沉积(cvd)法制备单晶石墨烯的技术,这个技术可以大大降低石墨烯膜的成本
)和物理气相沉积法(pvd).cvd是一种用于生产高质量、高性能的固体材料的化学过程,这个方法通常应用于半导体领域的薄膜制造.pvd是一种真空沉积法,可以用来制作薄膜和涂层.pvd是材料从凝聚态转变为气态..., 2014, 16(9): 4135. bke f, giner i, keller a, et al. plasma-enhanced chemical vapor deposition (pe-cvd